紅外光學(xué)薄膜：鍺錠加工為鍺蒸發(fā)料，用于制備紅外光學(xué)薄膜（如增透膜、濾光膜），提升紅外鏡片的透過率與抗反射性能，適配高端光學(xué)系統(tǒng)需求。

商業(yè)航天與光伏：鍺錠用于制備空間太陽能電池的襯底材料，適配太空高輻射、極端溫度環(huán)境，是衛(wèi)星、空間站供電系統(tǒng)的核心部件；但目前需求規(guī)模較小，2025 年全球光伏用鍺需求不足 5 噸。

工藝核心原理：利用雜質(zhì)在鍺的固 - 液兩相中分配系數(shù)不同（多數(shù)雜質(zhì)在液相中溶解度更高），通過移動窄熔區(qū)將雜質(zhì)向尾料端偏析，純鍺在熔區(qū)前方定向結(jié)晶，經(jīng)多道次提純達到高純度。

后處理優(yōu)化工藝：?

真空退火：400~500℃保溫 4~8 小時，消除區(qū)熔過程中產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力，改善晶體完整性；?

切頭切尾：切除含高濃度雜質(zhì)的首尾部分（占比約 10%~15%），保留中間高純段；?

精密檢測：ICP-MS 雜質(zhì)分析（檢測限≤0.01ppm）、電阻率測試（25℃下 47~53Ω?cm）、晶體結(jié)構(gòu)表征（X 射線衍射）。