載板電鍍的工藝流程包括：清潔、脫脂、進料、化學(xué)處理、水洗、電解沉積、除膠、終檢等環(huán)節(jié)。其中，化學(xué)處理是整個工藝流程中重要的環(huán)節(jié)，其影響電鍍效果的因素包括電壓、電流、電解質(zhì)濃度、流速等。

優(yōu)點和應(yīng)用

1.性：通過成批生產(chǎn)方式，可以大大提高生產(chǎn)效率。

2.高精度：金屬載板上的電鍍涂層具有高精度和高均勻性，可以實現(xiàn)亞微米級的精度和優(yōu)異的表面光潔度。

3.高復(fù)雜度：載板電鍍可以實現(xiàn)各種形狀和尺寸的金屬結(jié)構(gòu)，可應(yīng)用于復(fù)雜的電子元器件和機械結(jié)構(gòu)上。

4.應(yīng)用廣泛：載板電鍍被廣泛應(yīng)用于電子、通訊、光電、汽車等領(lǐng)域，比如手機屏幕、LED芯片、連接器、汽車排氣管等。

鍍層幾何參數(shù)：控制是基礎(chǔ)

載板的超細(xì)線路 / 凸點對幾何尺寸要求，偏差會直接導(dǎo)致封裝失效（如鍵合不良、短路）。

檢測項目 核心標(biāo)準(zhǔn)要求 檢測工具

鍍層厚度 - 圖形銅：厚度偏差≤±10%（如設(shè)計 10μm，實際需在 9-11μm）；

- 鎳層：2-5μm，偏差≤±0.5μm；

- 金層：0.05-0.15μm（ENEPIG），偏差≤±20% X 射線熒光測厚儀（XRF）、金相顯微鏡

凸點尺寸（Bump） - 直徑偏差≤±5%（如設(shè)計 50μm，實際 47.5-52.5μm）；

- 高度偏差≤±8%；

- 同一載板凸點高度差≤5μm 激光共聚焦顯微鏡、3D 輪廓儀

線路 / 焊盤精度 - 線寬偏差≤±10%（如設(shè)計 15μm，實際 13.5-16.5μm）；

- 焊盤直徑偏差≤±5%；

- 線路邊緣粗糙度（Ra）≤1μm

電氣性能：保障信號傳輸與電流承載

載板需滿足高頻、大電流封裝場景，電氣性能是核心指標(biāo)。

鍍層電阻：

標(biāo)準(zhǔn)：銅鍍層電阻率≤1.72×10??Ω?m（接近純銅理論值，雜質(zhì)會導(dǎo)致電阻升高）；

檢測工具：四探針電阻測試儀。

電遷移抗性：

標(biāo)準(zhǔn)：在 1×10?A/cm2 電流密度、125℃環(huán)境下，銅鍍層電遷移失效時間≥1000h（避免長期使用中因金屬遷移導(dǎo)致短路）；

檢測方法：JEDEC JESD22-A108 電遷移測試標(biāo)準(zhǔn)。