小型真空鎢舟熱蒸鍍儀KT-Z1650CVD

是一款小型多功能鍍膜儀，額定1800度高溫，自動(dòng)樣品擋板，靶臺(tái)旋轉(zhuǎn)，觸摸屏多段控制，工藝儲(chǔ)存等功能。

正空蒸發(fā)鍍膜包括以下基本過程：（1）加熱蒸發(fā)過程：包括由凝聚相轉(zhuǎn)變?yōu)闅庀嗟倪^程，每種蒸發(fā)物質(zhì)在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。（2）氣態(tài)原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間運(yùn)輸，即原子或分子在環(huán)境氣氛中的飛行過程。

（3）蒸發(fā)原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發(fā)，凝聚，成核，核生長，形成連續(xù)的膜。由于基板溫度遠(yuǎn)

低于基板溫度遠(yuǎn)低于蒸發(fā)源溫度，因此，氣態(tài)分子在基片表面將發(fā)生直接由氣態(tài)到固態(tài)的相轉(zhuǎn)變過程。

編輯

以下是不同真空度 不同鍍膜時(shí)間鍍銅樣品圖

原樣品沒有鍍膜

115A 100秒 機(jī)械泵

115A 100秒 分子泵抽12分鐘

115A 120秒 分子泵抽20分鐘

真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色

技術(shù)參數(shù)

控制方式

7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

加熱方式

數(shù)字式功率調(diào)整器

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1200W

輸出電壓電流

電壓≤12V 電流≤120A

真空度

機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm

樣品臺(tái)

可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底）

樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離

70-140mm

蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié)

≤1800℃

支持蒸發(fā)坩堝類型

鎢絲藍(lán) 帶坩堝鎢絲藍(lán) 鎢舟 碳繩

預(yù)留真空接口

KF25抽氣口 KF16真空計(jì)接口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口

可選配擴(kuò)展

機(jī)械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa）

數(shù)顯真空計(jì)（測量范圍大氣壓到0.1Pa）

分子泵機(jī)組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）