拋光

拋光是指利用 機械、化學或 電化學的作用，使工件表面粗糙度降低，以獲得光亮、平整表面的加工方法，是利用拋光工具和磨料顆粒或其他拋光介質對工件表面進行的修飾加工。

拋光不能提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度，而是以 得到光滑表面或鏡面光澤為目的，有時也用以 消除光澤（消光）。

通常以拋光輪作為拋光工具。拋光輪一般用多層帆布、毛氈或皮革疊制而成，兩側用金屬圓板夾緊，其輪緣涂敷由微粉磨料和油脂等均勻混合而成的拋光劑。

拋光時，高速旋轉的拋光輪（圓周速度在20米/秒以上）壓向工件，使磨料對工件表面產(chǎn)生滾壓和微量切削，從而獲得光亮的加工表面，表面粗糙度一般可達Ra0.63～0.01微米；當采用非油脂性的消光拋光劑時，可對光亮表面消光以改善外觀。

針對不同的拋光過程： 粗拋（ 基礎拋光過程），中拋（ 精加工過程）和精拋（ 上光過程） ，選用合適的拋光輪可以達到拋光效果，同時提高拋光效率。

工藝流程】

單色、漸變色：

拋光/噴砂/拉絲→除油→陽極氧化→中和→染色→封孔→烘干

雙色：

①拋光/噴砂/拉絲→除油→遮蔽→陽極氧化1→陽極氧化2 →封孔→烘干

②拋光/噴砂/拉絲→除油→陽極氧化1 →鐳雕→陽極氧化2 →封孔→烘干

通常所指的蝕刻也稱 光化學蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

通常所指的蝕刻也稱 光化學蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。