載板可分為兩類：
1.
薄層色譜載板：作為平面介質(zhì)負(fù)載固定相，基材包括玻璃板、金屬板或塑料板；
2.
IC載板：用于集成電路封裝，包含ABF載板、FCBGA載板等類型，采用高密度加成構(gòu)裝技術(shù)實(shí)現(xiàn)芯片與電路板的信號(hào)導(dǎo)通
隨著線路板高密度的發(fā)展趨勢(shì)，線路板的生產(chǎn)要求越來越高，越來越多的新技術(shù)應(yīng)用于線路板的生產(chǎn)，如激光技術(shù)，感光樹脂等等。以上僅僅是一些表面的膚淺的介紹，線路板生產(chǎn)中還有許多東西因篇幅限制沒有說明，如盲埋孔、繞性板、特氟瓏板，光刻技術(shù)等等。如要深入的研究還需自己努力。
PCB電鍍的主要方法包括浸鍍、噴鍍和刷鍍等。
浸鍍：將電路板完全浸入含有金屬離子的電鍍液中，通過電流作用使金屬離子在電路板表面沉積形成金屬薄膜。浸鍍具有操作簡(jiǎn)單、成本低廉的優(yōu)點(diǎn)，但可能存在金屬層分布不均勻的問題。
噴鍍：利用噴槍將電鍍液噴灑在電路板表面，通過控制噴槍的移動(dòng)速度和角度，實(shí)現(xiàn)金屬層的均勻分布。噴鍍適用于對(duì)金屬層厚度和分布要求較高的場(chǎng)合。
刷鍍：使用刷子將電鍍液涂抹在電路板表面，通過刷子的摩擦作用使金屬離子在電路板表面沉積。刷鍍適用于對(duì)局部區(qū)域進(jìn)行電鍍的情況。
電鍍?cè)砼c基本流程：
水平電鍍與垂直電鍍?cè)诜椒ê驮砩想m有所差異，但核心要素相似。它們都依賴陰陽兩極的設(shè)定，通過通電引發(fā)電極反應(yīng)，使得電解液中的主成分發(fā)生電離。正離子在電場(chǎng)作用下向電極反應(yīng)區(qū)的負(fù)極移動(dòng)，而負(fù)離子則向正極移動(dòng)，從而形成金屬沉積鍍層并釋放氣體。
在水平電鍍過程中，鍍液中的銅離子主要通過三種方式輸送到陰極附近：一是靠擴(kuò)散作用，二是靠離子遷移，三是靠主體鍍液的對(duì)流作用及離子遷移。這些過程共同構(gòu)成了水平電鍍的基本原理。水平電鍍通過電流反應(yīng)沉積金屬，借助于對(duì)流、離子遷移等手段實(shí)現(xiàn)鍍層均勻。
